MENU
  • 首页
  • 关于我们
  • 新闻资讯
  • 产品中心
  • 研发中心
  • 招贤纳士
  • 联系我们
  • OLED蒸镀系统 OLED封装系统 OLED器件寿命测试仪 真空升华提纯设备 台阶仪 I-V-L测试仪 光谱椭偏仪

    OLED蒸镀系统

    OLED Cluster Deposition System

    设备简介

     拥有3套先进的OLED蒸镀设备,可在高真空环境下精确实现有机材料、金属复合物材料、金属材料的蒸发镀膜。该系统含有3个有机腔体和1个金属腔体,并含有加热冷却、PLASMA处理单元,可实现器件的全自动制备。

    基本技术参数

    Basic technical parameters

     1.蒸发源数量: 30个

     2.蒸发源温度: RT~500℃ (低温源)/1300℃.

     3,成膜准确性和均匀性:有机±3%、金属±5%

     4.最低可控蒸镀速率: 0.002nm/sec.

     5. Mask对位精度: 100um(机械对位)。

     6. Subshutter功能:可实现同一片基板上快速多条件制备器件。

    

    Copyright © 2018 宁波卢米蓝新材料有限公司    浙ICP备18049446号    技术支持:穿石科技