拥有3套先进的OLED蒸镀设备,可在高真空环境下精确实现有机材料、金属复合物材料、金属材料的蒸发镀膜。该系统含有3个有机腔体和1个金属腔体,并含有加热冷却、PLASMA处理单元,可实现器件的全自动制备。

 1.蒸发源数量: 30个

 2.蒸发源温度: RT~500℃ (低温源)/1300℃.

 3,成膜准确性和均匀性:有机±3%、金属±5%

 4.最低可控蒸镀速率: 0.002nm/sec.

 5. Mask对位精度: 100um(机械对位)。

 6. Subshutter功能:可实现同一片基板上快速多条件制备器件。